同步辐射氮化硅薄膜窗口

  苏州原位芯片科技有限公司的技术团队一直致力于研发和生长超清洁的同步辐射和电子显微镜用高质量氮化硅膜产品,包括常规的同步辐射氮化硅膜、TEM氮化硅膜、电化学和电学液体原位芯片产品。 同步辐射氮化硅薄膜窗口 产品规格(接受其他规格…

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TEM氮化硅薄膜窗口

苏州原位芯片科技有限公司生产的氮化硅薄膜窗口是利用先进的MEMS技术制备的高质量产品,氮化硅薄膜清洁坚固。我们的氮化硅薄膜窗口适合用于透射成像和透射能谱等广泛的多个科学研究领域。

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TEM氮化硅微孔窗口

苏州原位芯片科技有限公司的氮化硅微孔窗口使用先进微电子工艺打造,可用于纳米线高分辨观测等实验和检测,相对于微栅碳膜其表面更加洁净稳定。0.5mm的方形氮化硅窗口依然位于硅片的中心,上面规则排布着2.8μm直径的圆孔。

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TEM硅孔框架

苏州原位芯片科技有限公司所生产的硅孔框架(无支撑薄膜)直径3mm、厚度200µm,中间有正方形或矩形开口。

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SEM氮化硅覆盖圆盘

苏州原位芯片科技有限公司生产的直径3mm的硅盘上覆盖有50nm的超低应力氮化硅,氮化硅表面超洁净,没有颗粒沾污。

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