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  苏州原位芯片科技有限公司的技术团队一直致力于研发和生长超清洁的同步辐射和电子显微镜用高质量氮化硅膜产品,包括常规的同步辐射氮化硅膜、TEM氮化硅膜、电化学和电学液体原位芯片产品。

同步辐射氮化硅薄膜窗口

产品规格(接受其他规格订制)
产品编号 氮化硅膜厚度,单位nm 窗口尺寸,单位mm2 外框尺寸,单位mm2
TE025B 50 0.25×0.25 5×5
TE050B 50 0.50×0.50 5×5
TE100B 50 1.00×1.00 5×5
TE150B 50 1.50×1.50 5×5
TE200B 50 2.00×2.00 5×5
TE025C 100 0.25×0.25 5×5
TE050C 100 0.50×0.50 5×5
TE100C 100 1.00×1.00 5×5
TE150C 100 1.50×1.50 5×5
TE200C 100 2.00×2.00 5×5
TE025D 200 0.25×0.25 5×5
每盒装有10枚芯片

  原位科技公司量产型同步辐射氮化硅薄膜窗口产品使用200μm硅基芯片制备,其中央有一个湿法刻蚀制备的方形的氮化硅膜窗口,我们的氮化硅是经过优选的高质量氮化硅,因此氮化硅薄膜更加坚固。

  标准的氮化硅窗口尺寸是0.25mm、0.50mm、1.00mm、1.50mm和2.00mm。硅基芯片的标准厚度为200μm。硅基芯片的边长规格有5.0mm和10.0mm两种。我们提供的氮化硅薄膜厚度的可选项有50nm、100nm和200nm,超薄的薄膜能满足最大透射率。

  如果您希望订制特殊规格的氮化硅膜,那么您也可以联系我们为您提供贵宾定制服务。

上图为产品样品,下图为本款窗口在显微镜下的抽检洁净度观测图像

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> 具体规格,请参见产品规格栏目。