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  苏州原位芯片科技有限公司生产的氮化硅薄膜窗口是利用先进的MEMS技术制备的高质量产品,氮化硅薄膜清洁坚固。我们的氮化硅薄膜窗口适合用于透射成像和透射能谱等广泛的多个科学研究领域。

氮化硅TEM窗口

  原位科技公司提供标准3mm氮化硅TEM窗口,氮化硅膜厚尺寸为15nm、30nm和50nm(其他尺寸也可以定制),硅基底厚度200μm。氮化硅窗外形为3mm外径的八边形,完美的适用于TEM样品杆。氮化硅膜采用低应力技术(250MPa)并且不易损坏。氮化硅窗格区域非常洁净,所有芯片均在百级超净环境下制备,并以10片一盒的形式装在自吸附盒和塑封袋中。同时窗格还可以用于TEM、SEM、AFM、拉曼、XRD和同步辐射等设备的单一以及联合交叉检测。

产品规格(接受其它规格定制)
整体200μm厚,直径3mm标准TEM尺寸
产品编号 氮化硅膜厚度,单位nm 窗口尺寸,单位mm2
SG025A 15 0.25×0.25
SG050A 15 0.50×0.50
SG100A 15 1.00×1.00
SG025B 30 0.25×0.25
SG050B 30 0.50×0.50
SG100B 30 1.00×1.00
每盒装有10枚芯片

图为氮化硅TEM窗口样品

氮化硅多窗格TEM载网

  原位科技公司可以为有多窗口观测需求的客户提供有3×3氮化硅窗格的产品。氮化硅膜厚可选则15nm、30nm和50nm(其他尺寸可以定制)。9个窗口等间距的分布在200μm厚3mm直径八边形硅基片的正中心。同时窗格还可以用于TEM、SEM、AFM、拉曼、XRD和同步辐射等设备的单一以及联合交叉检测。

产品规格(接受其它规格定制)
多窗口阵列,整体200μm厚,直径3mm标准TEM尺寸
产品编号 氮化硅膜厚度,单位nm 窗口尺寸,单位mm2 窗口数量
AR010A 15 0.1×0.1 9
AR010B 30 0.1×0.1 9
每盒装有10枚芯片

图为氮化硅多窗格TEM载网样品

长方形氮化硅TEM窗口

  长方形氮化硅窗口可以为TEM、X射线等设备提供超大的观察角度。氮化硅膜厚可选择15nm、30nm和50nm(其他尺寸可以定制)。同时窗格还可以用于TEM、SEM、AFM、拉曼、XRD和同步辐射等设备的单一以及联合交叉检测。

产品规格(接受其它规格定制)
长方形氮化硅窗口,整体200μm厚,直径3mm标准TEM尺寸
产品编号 氮化硅膜厚度,单位nm 窗口尺寸,单位mm2
RE1505A 15 1.5×0.5
RE1505B 30 1.5×0.5
每盒装有10枚芯片

图为长方形氮化硅TEM窗口样品

  原位科技公司生产适用于TEM的氮化硅薄膜窗口样品载体系列产品。该产品为一个3mm直径、200μm厚的硅基芯片,在其上有一个0.25mm×0.25mm或0.5mm×0.5mm氮化硅薄膜窗口。我们制备的氮化硅薄膜窗口厚度一般在15nm到50nm,我们也可以提供其他规格的定制产品。

  原位科技公司生产的专用氮化硅薄膜窗口系列产品具有良好的洁净度和稳定性。良好的洁净度使您获得优秀的图像结果,而稳定性意味着产品不容易破裂。本产品可耐受至少900℃高温,并具备惰性衬底。

图为本款窗口在显微镜下的抽检洁净度观测图像

> 产品应用实例,请参见产品功能栏目。

产品主要品种

  1. 氮化硅TEM窗口
  2. 氮化硅多窗格TEM载网
  3. 长方形氮化硅TEM窗口
  4. 标准TEM氮化硅微孔窗口
  5. 硅孔框架(无支撑薄膜)
  6. 氮化硅覆盖的3mm圆盘

> 具体规格,请参见产品规格栏目。